一、適用范圍
鍍層均勻性及鍍層質量要求較高的電鍍、電鑄處理工藝。
二、應用領域
應用于電子、封裝、精密元器件、新材料等產品的電鍍、電鑄工藝處理。
三、設備特點
1、選配模塊：精密伺服傳輸系統、超聲波清洗系統、抽風系統、封閉房系統、特殊掛籃；
2、標準規格：雙槽或三槽結構（一定范圍內尺寸可定制）；全自動及手動兩大系列可選；
3、壓縮機、風機、循環泵等關鍵設備均為全進口設備，確保設備可靠高效運行；
4、清洗效率高、時間短、清洗徹底、無二次污染問題，可實現對工件造成最小損傷；
5、雙層冷凝盤管設計，雙壓縮機獨立制冷，150%超大冷凝區，獨有“溶劑保持”特點，各層冷凝系統獨立運行；
6、帶有分子篩功能的重力液水分離器及循環過濾系統，提高溶劑循環使用率；
7、設備具有自動檢測及提示更換清洗劑功能，根據沸點的變化自動提示更換清稀溶液。
四、應用現場
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